Universal-300 X 是凭据当前高端市场需要开发的先进12英寸CMP设备。该设备使用了3868la银河总站拥有自主知识产权的创新技术 ，建设机能优越的抛光单元及洗濯单元 ，集成多种先进终点检测技术 ，高效不变、工艺组合矫捷 ，可实现晶圆纳米级全驹旖坦化 ，满足先进造程技术需要 ，已在集成电路、先进封装、大硅片等造作工艺中批量利用。
8个独立气压分区的抛光头
集成多种终点检测技术
A&B侧齐全独立设计 ，一机两用 ，效能翻倍
先进的竖直洗濯技术
满足先进造程的技术需要 ，获得大批量利用
